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PhotoKina2012:宾得理光发布HD镀膜技术

  • 发布日期:2012-09-26 08:52
  • 有效期至:长期有效
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               2012年世界影像博览会(PhotoKina2012),定于2012年9月18日至9月23日在德国科隆举行。

  两年一届的世界影像博览会(photokina)是照相与成像工业领域领先的展览会,是世界上唯一的为大众消费者和专业人士提供所有成像介质、成像技术与成像市场综合性展示的展览会。因此,世界影像博览会(photokina)在成像领域具有独特的竞争优势,使其成为所有影像用户提供综合性解决方案的展示平台。


  宾得理光映像株式会社欣然宣布HD镀膜技术的发布,一种全新研发的镜头多层镀膜工艺。

  与传统镀膜工艺相比,新型HD镀膜由PENTAX开发,能大幅改良光线透射率并具有更低的折射率。由于降低了反射,该技术可使画面更锐利、明亮,且具有更少的眩光与鬼影出现,即使在如逆光等特定光线条件下也同样出色。该镀膜技术能够实现和PENTAX高端镜头采用的纳米技术Aero Bright Coating镀膜相同的光学性能。

  PENTAX将来所有采用HD镀膜技术的数码相机可更换镜头的型号起始标识将由“HD PENTAX”取代过去的“smc PENTAX”。

  * HD意为High Definition,表示该镜头具备强大的透光性、精度、分辨率及画面表现力

  1. 可见光谱反射降低50%

  新镀膜相比过去传统的多层镀膜技术,可有效地降低可见光谱50%的反射。

  2. 高强度镀层

  HD镀膜的镀层附着力更强,封装密度更高,能确保更耐久更坚硬。

  3. 忠实于镀膜设计理念的初衷

  传统的镀膜采用真空蒸馏镀膜工艺,即镀膜材料在真空环境中溶解并沉积而成。这种工艺有时会呈现不稳定性,从而导致镀膜厚度不均或者影响到镀膜的折射率。

  HD镀膜通过宾得独家的生产工艺解决了上述问题,同时优化了镀膜的密度并将镀膜厚度误差控制在1纳米(一百万分之一毫米)以内。从而使得镜头镀膜原本的设计初衷被忠实地还原到真实镀膜中,镜头的抗反射性能得到更好的优化。

  传统镀膜与HD镀膜对比

宾得发布全新镜头多层镀膜技术:HD镀膜技术

  新镀膜相比过去传统的多层镀膜技术,可有效地降低可见光谱50%的反射

  得益于稳定的波长反射,这种新型镀膜能够让色彩平衡的控制更理想

 
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